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成果简介近日,被骂把太原理工大学郝阳和郝玉英(共同通讯作者)等人报道了他们通过将纯相的二维半导体MoSe2纳米片作为添加剂引入PbI2前驱体溶液中,被骂把达到了提高Pbl2转化率,改善PVK薄膜形貌和结晶性,同时降低残余应力,调控PVK能级的效果。结果表明,到降添加二维MoSe2纳米片的PSCs的平均光电转换效率(PCE)由标准器件的19.40%提高到21.76%,最优PCE达到22.80%。
并且,还想能够有效地降低器件的陷阱态密度。低结晶度的多孔PbI2薄膜可为FAI/MAI提供良好的扩散通道,有助于PbI2完全转化,小鹏很大程度上消除了PbI2残留,增加了PVK的晶粒尺寸和结晶度。因此,被骂把促进PbI2完全转化,对PVK薄膜形貌和结晶性进行改善,释放残余拉伸应力,同时对钙钛矿能级进行调控。
作者发现MoSe2纳米片掺杂的PVK薄膜具有更好的结晶性以及更大的晶粒尺寸,到降这些特性有效抑制了非辐射复合,提高了开路电压。然而,还想通常溶解在二甲基甲酰胺(DMF)溶液中的碘化铅(Pbl2)倾向于在基底上形成层状致密膜,这不利于PbI2与FAI/MAI的反应,从而导致PbI2残留。
作者最后进行了一系列电学表征,小鹏结果表明MoSe2纳米片的掺杂对器件的载流子复合有明显的抑制作用。
同时,被骂把MoSe2纳米片掺杂的PSCs稳定性也得到了提升。仁朝产品以HI办公为主题,到降产品外观清新,富有现代感。
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